不让台积专美 SK海力士也考虑采用ASML的High NA EUV设备

                               
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SK海力士技术长表示，正考虑使用艾司摩尔（ASML）最新的High-NA EUV微影系统设备，来生产下一代内存芯片。 （路透）

南韩芯片大厂SK海力士14日表示，正考虑使用艾司摩尔（ASML）造价4亿美元的高数值孔径极紫外光（High NA EUV）微影系统设备，来生产下一代内存芯片。

路透社报道，SK海力士技术长Seon-yong Cha 14日在荷兰举行的艾司摩尔投资人日上透过预录影片表示，正考虑引进这台全球最昂贵的芯片制造设备。

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虽然这台设备造价不斐，但据传台积电和英特尔等公司都已下单。 外媒本月稍早引述消息人士报导，台积电订购的High-NA EUV设备首批机件，将在年底前运抵台湾。 英特尔则在几个月前就已收到这台设备。

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